电子学基础

最近画PCB时感觉很多电子学知识都不太熟悉,于是通过搜索维基百科做了一个基础知识的整理。

🌟电子学历史


真空管时期

真空管(Vacuum tube)可分为二极管、三极管、四极管、五极管和复合管等。

1904年,John Ambrose Fleming发明了二极管(Diode)。1906年,Lee De Forest发明了三极管(Triode)。

这时的电子学主要是“无线电技术”。

晶体管及集成电路时期

1948年,贝尔实验室的John Bardeen、Walter Houser Brattain和William Shockley发明了晶体管(Transistor)。

1958年,Jack Killby发明了集成电路(Integrated Circuit, IC )。

⭐️二极管(Diode)


diode

早期是真空二极管,后来发展出半导体二极管。

结构

一个半导体性能的结晶片通过PN结连接到两个终端。

PN结

将一块半导体晶体(如硅晶体)的一侧掺入少量磷,使自由电子浓度较高,带负电,为N型半导体;另一侧掺入少量硼,使空穴浓度较高,带正电,为P型半导体。中间的接触面形成一个过渡层,成为PN结(P-N junction)。

特性

PN_feature

二极管仅允许电流单方向传导,即顺向流通、逆向阻断

二极管的电流-电压特性曲线是非线性的。

⭐️三极管


transistor_symbol

三极管可以指真空三极管(Triode),也可以指双极性晶体管(BJT)。

真空三极管具有放大功能,是第一个电子放大器。20世纪70年代起被晶体管取代。

⭐️晶体管(Transistor)


结构

晶体管由三部分掺杂程度不同的半导体制成,两种不同掺杂物之间的边界形成PN结,故有NPN型和PNP型。它有三个对外端点(称之为极)。

特性

当晶体管工作于线性区时,就成为“放大器”。常用于模拟电路。

当晶体管要么完全关闭要么完全导通时,就称为“开关”。常用于数字电路。

分类

晶体管主要分两类:双极性结型晶体管(Bipolar Junction Transistor, BJT )(俗称三极管)和场效应管(Field Effect Transistor, FET)(也叫单极性晶体管)。

BJT工作时,电子和空穴两种载流子都在流动;FET工作时,只有单一种类的载流子在流动。

BJT

BJT的三个极为射极(Emitter)、基极(Base)和集极(Collector)

射极到基极的微小电流,会使得射极到集极之间的阻抗改变,从而改变流经的电流。即基极-发射极电流控制集电极-发射极电流(也可以看成电压控制)。

在放大区内,可以近似认为:前者为恒定值,后者为前者的若干倍,晶体管起电流放大作用。

NPN型

BJT_NPN

箭头(表示发射极电流方向)指向外侧,即从基极指向发射极。

现在使用的BJT大部分是NPN型。

BJT_working_area

根据发射结(基极-发射极)和集电结(基极-集电极)的偏置情况定义工作区:

  • 正向放大区/放大区(集电极-发射极电流与基极-发射极电流近似成线性关系):发射结正向偏置集电结反向偏置;
  • 反向放大区(几乎不用):发射极反向偏置,集电结正向偏置;
  • 饱和区(可在数字逻辑中表示电平):两个PN结均正向偏置;
  • 截止区(可在数字逻辑中表示电平):两个PN结均反向偏置;
  • 突崩溃:集电结反向偏置电流过大,PN结被击穿。

PNP型

箭头指向内侧,即从发射极指向基极。

PNP型的工作区的电压描述与NPN型相反。

三种放大器结构

common_EBC

共射极

基极作为输入端,集极作为输出端,射极为共用端(即接地,或接电源)。类似FET的共源极。

通常用于功率放大器、射频电路、低噪音放大器。

共基极

即基极接地(或接电源)。类似FET的共闸极。

通常用于电流缓冲器、电压放大器。不常用于低频电路,常用于高频电路。

共集极

即集电极接地(或接电源)。类似FET的共漏极。

通常用于电压缓冲器、负反馈放大器。

FET

实用的器件是结型场效应晶体管(Junction gate Field- Effect Transistor,JFET)金属氧化物半导体场效应晶体管(Metal-Oxide-Semiconductor FET, MOSFET)。二者原理相同,但前者使用PN结,后者使用肖特基结(金属与半导体之间的结)。

FET的三个极是栅极(Gate)、漏极(Drain)、源极(Source)(对应BJT的B、C、E)。除JFET外,所有FET都有第四个极,被称为体(body)、基(base)、块体(bulk)或衬底(substrate)。这个第四极可以将FET调制至运行。

JFET

JFET分为N沟道(N-channel)和P沟道(P-channel)两种。

结构和原理

JFET_N

一个N沟道JFET是被P型半导体环绕的N型半导体。Source与Drain之间为N通道,它与Gate的P区形成PN结。Gate起控制作用。

Up为夹断电压。夹断后,相当于一个恒流源(I_DSS)。

符号

箭头表示沟道和栅极形成的PN结的极性(从P指向N),也是正向偏压下的电流方向。

MOSFET

MOSFET分为NMOSFET和PMOSFET。还可以分为增强型和耗尽型。

MOSFET在概念上属于绝缘闸极场效电晶体(Insulated-Gate Field Effect Transistor, IGFET)。IGFET多指MOSFET。

结构和原理

MOSFET_N

MOSFET除了Source、Drain和Gate外,还有Body。

MOSFET的核心是位于中央的MOS电容,左右两侧是Source和Drain。

MOS电容的结构是“金属(常用多晶硅取代)-氧化物(SiO2)-半导体”,其中氧化物相当于电容器中的介电质。

工作区

MOSFET_working_area

根据在MOSFET三个极施加的偏置电压的不同,有三种工作模式。以增强型NMOS为例:

当 |VGS| < |Vth| 时,处于截止区,不导通。|VGS| 为Gate到 Source的偏压差,|Vth| 为材料的临界电压;

当 VGS > Vth 且 VGD > Vth 时,处于线性区,相当于一个压控电阻,电流-电压有线性关系;

当 VGS > Vth 且 VGD < Vth 时,处于饱和区

符号

将虚线改成实线就是耗尽型MOSFET。

⭐️逻辑电路


BJT逻辑电路有TTL(Transistor-Transistor Logic,晶体管-晶体管逻辑)和ECL(Emitter Coupled Logic,发射极耦合逻辑),MOSFET的逻辑电路是CMOS(Complementary Metal- Oxide- Semiconductor,互补式金属氧化物半导体)。

TTL

TTL

TTL是由晶体管、二极管和电阻构成的数字集成电路。最常见的是74系列。

TTL速度快,CMOS速度慢,但省电,成本比TTL低。后来CMOS的发展超越了TTL。目前TTL主要应用于教育或是较简单的数字电路。

CMOS

CMOS

CMOS由一对NMOS和PMOS构成。

CMOS只有在切换启动与关闭时才消耗能量。

ECL

ECL

ECL的速度很快。摆幅小,抗干扰能力弱。

图中第一部分为开关,实现“或/或非”功能;第二部分为参考电压源,实现温度补偿功能;第三部分为射极跟随器,实现输出及隔离功能。

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